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电化学抛光机抛光法：

1.通过电化学溶解的方法使金属表面获得平滑或光亮的表面效果。

2.部分材料表面会出现氧化膜形成。

3.抛光表面的耐蚀性好，光亮面的持续时间长。

4.基体材料的构成与结构对抛光表面效果影响大。

5.缺点是抛光后会残留大的凹凸处条纹。

6.改变材质和抛光条件易获得亚光或橘皮状表面。

7.优点是形状复杂、细小的零件及薄极易于抛光。

8.另外化学抛光速度快，产量大，生产率高，易自动化生产。

9.缺点是大件物品抛光难。

10.适于软质合金的抛光。

11.抛光材料的消耗少，成本较低。

12.抛光面无应力，不会夹杂磨料。

13.可提高硅钢片的导磁率10%—15%，降低滞后损失10%—12%。

机械抛光机抛光法：

1.通过切削、变形和磨耗使金属表面光滑或光亮的表面效果。

2.表面会形成冷作硬化的变形层。

3.缺点是耐蚀性差，光亮持续时间短。

4.优点主要是基体材料对抛光效果的影响很小。

5.产品表面不留凹凸处和条纹。

6.无法获得亚光和橘皮状表面。